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　　新專利公布 佳能提出改善高密度傳感器佳能在近日公開的一份專利中，提出了一種在傳感器內(nèi)層鏡片和光電二極管之間嵌入高折射層的新技術(shù)。新技術(shù)利用高折射層自身特性，提高傳感器的光線收集能力和相位差檢測對焦速度。

　　　　　　　　　　　　　　　

　　　　　　　　　　　　　▲現(xiàn)有傳感器內(nèi)的光電二極管無法收集透光間隙外的光線

　　由于現(xiàn)有的背照式CMOS傳感器在微透鏡和光電二極管之間只有一層低折射層，光電二極管無法收集遮光層間隙以外的光線，而且隨著像素密度的增加，遮光層的透光間隙寬度也會隨之減小，嚴(yán)重影響傳感器的光線收集能力和相位差檢測對焦速度。
　　　　　　　　　　　　　　


　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　▲新傳感器技術(shù)原理

　　一般微透鏡折射率為1.6，低折射層的折射率為1.45，佳能此項新技術(shù)使用的高折射層的折射率達到了2.3。新技術(shù)通過在內(nèi)層鏡片和光電二極管之間嵌入高折射層，將所有入射光線都聚焦在透光間隙內(nèi)，從而達到提高光線收集能力和相位差檢測對焦速度的目的。

　　看起來，佳能的這項專利與月初尼康公布的改善傳感器光線收集能力專利似乎是異曲同工。

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